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    PHI Quantera II X射線光電子能譜儀

    PHI Quantera II X射線光電子能譜儀

    簡要描述:

    PHI Quantera II X射線光電子能譜儀是Ulvac-Phi公司以在業界獲得非常成績的Quantum 2000和Quantera SXM之上延申后所研發的XPS分析儀器,其革命性超卓技術包括有:一個*微集中掃描的X射線來源,的雙光束的電荷中和技術,在極低電壓下仍可保持高性能的離子束源以進行XPS的深度分析

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    PHI Quantera II X射線光電子能譜儀是Ulvac-Phi公司以在業界獲得非常成績的Quantum 2000和Quantera SXM之上延申后所研發的XPS分析儀器,其革命性超卓技術包括有:一個*微集中掃描的X射線來源,的雙光束的電荷中和技術,在極低電壓下仍可保持高性能的離子束源以進行XPS的深度分析,一個五軸精密的樣品臺和負責全自動樣品傳送的機械手臂,與及一個完全自動化且可支持互聯網遠程控制的儀器操作平臺。
    PHI Quantera II X射線光電子能譜儀增加了這些革命性的技術性能和生產力,再一次提供了zui高性能的XPS系統,以滿足您當前和未來的XPS需要。
    優點:
    容易使用:無論您是在分析一個薄膜樣品、有機聚合物、一個大的塑料鏡片,不銹鋼刀片又或是焊錫球;所有的儀器設置和設定都是完全相同的。用者只需用鼠標點在一個光學圖像單擊選擇一個或多個分析地區,加上雙光束中和系統和自動Z-軸高度調整功能,就可以透過儀器軟件的自動隊列執行所有分析。整個操作流程不需要任何的設定調整,不用因不一樣樣品成份而有任何顧慮,甚至也不需要有操作員整天待在儀器旁邊;一切的操作都可以自動的完成。
    薄膜分析:Quantera II 不僅提供了無機薄膜樣本良好的深度剖面分析性能,而且也可以在利用C60離子槍對有機薄膜得出非常優越的深度分析結果。
    掃描 :PHI使用了*的聚焦掃描X射線源,使XPS微區分析變得更高效。如圖4所示,X射線源是經由聚焦電子光柵掃描并撞擊在鋁陽極上所產生的,而此產生的聚焦鋁X射線會再透過橢球形狀的單色器反射在樣品表面上。當電子束掃描在鋁陽極上時,所產生的X射線束在樣品上也會作出同步的掃描。X射線束的直徑大小可調范圍為7.5微米以下到400微米以上。
    微區光譜:在光學顯微鏡,在這透明的聚合物薄膜表面上是沒有發現任何污染物的。但是如以下圖5中所示,使用二次電子影像時就立即顯示了在聚合物表面上的化污染物的存在。在短短幾分鐘內,Quantera II儀器就可以利用一個直徑為20微米的X射線束得到確定的氟碳污染物
    。

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