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    PHI 5000 Versaprobe II X射線光電子能譜儀
    PHI 5000 Versaprobe II X射線光電子能譜儀

    PHI 5000 Versaprobe II X射線光電子能譜儀是材料科學和發展的領域中Z廣泛使用的表面分析技術。其原理是利用X射線束(一般會使鋁陽極或鎂陽極)作為入射源,照射在樣品表面導致讓光電子從原子的核心層被激發出。根據測得的光電子所發出的電子動能,再依照能量守恒定律就可以知道電子的結合能,從而也就可知道樣品表面是何物質。

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    賽默飛 EscaLab 250Xi X射線光電子能譜儀
    賽默飛 EscaLab 250Xi X射線光電子能譜儀

    賽默飛 EscaLab 250Xi X射線光電子能譜儀是一臺多功能高性能的表面分析儀器,它可以用于研究各種固體材料樣品表面(1-10nm厚度)的元素種類、化學價態以及相對含量。結合離子刻蝕技術還可以獲得元素及化學態深度分布信息;通過成像技術可以獲得元素及化學態的面分布信息;利用微聚焦X射線源或電子束可以獲得微區表面信息。在金屬、玻璃、高分子、半導體、納米材料、生物材料以及催化等領域有廣泛應用。

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    PHI Quantera II X射線光電子能譜儀
    PHI Quantera II X射線光電子能譜儀

    PHI Quantera II X射線光電子能譜儀是Ulvac-Phi公司以在業界獲得非常成績的Quantum 2000和Quantera SXM之上延申后所研發的XPS分析儀器,其革命性超卓技術包括有:一個*微集中掃描的X射線來源,的雙光束的電荷中和技術,在極低電壓下仍可保持高性能的離子束源以進行XPS的深度分析

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    賽默飛 Nexsa™ X 射線光電子能譜儀 XPS
    賽默飛 Nexsa™ X 射線光電子能譜儀 XPS

    賽默飛 Nexsa™ X 射線光電子能譜儀 (XPS) 系統能提供全自動、高通量的多技術分析,并可保持研究級結果的高質量水平。ISS、UPS、REELS、拉曼等多種分析技術集于一身,用戶因此能夠進行真正意義上的相關性分析,從而為微電子、超薄膜、納米技術開發以及許多其他應用進一步取得進展釋放潛能。

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    賽默飛 K-Alpha+ X射線光電子能譜儀系統
    賽默飛 K-Alpha+ X射線光電子能譜儀系統

    賽默飛 K-Alpha+ X射線光電子能譜儀系統是一款完全集成的X射線光電子能譜。獲獎的版K-Alpha平臺特征光譜性能顯著提高,提供更高計數率和更快分析時間,改善化學探測能力。

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    PHI X-tool 全自動掃描型微區探針能譜儀
    PHI X-tool 全自動掃描型微區探針能譜儀

    PHI X-tool 全自動掃描型微區探針能譜儀是一款操作簡單,同時具備高效高能的XPS。其秉承PHI-XPS獨有的掃描聚焦X-ray系統,可通過單色化石英晶體叫X-ray直接聚焦至20μm。

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